AFTEX-8000系列成膜设备

使用高活性高密度ECR（电子回旋共振）等离子体源，通过在等离子体引出部配置目标，实现基于固体源的ECR等离子体成膜。因为不需要使用CVD那样危险的气体，所以不需要排气处理，是对地球环境友好的成膜技术。

AFTEX-8000系列ECR等离子体成膜设备，采用高活性、高密度的ECR（电子回旋共振）等离子体源，通过在等离子体引出部配置固体目标，实现基于固体源的ECR等离子体成膜工艺。与传统CVD方法不同，设备无需使用危险气体，因此无需复杂的废气处理系统，是一种兼顾高性能与环保要求的先进成膜技术。

AFTEX-8000系列在一个成膜腔体内搭载了两组倾斜配置的ECR等离子体源，可在最大8英寸直径的基板上高效形成具有优异均匀性和高质量的多层光学薄膜。

本机型为C to C（Cassette to Cassette）枚叶式全自动多层膜沉积系统，广泛适用于对光学性能、膜质要求极高的应用领域。

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